• 产品名称:产品介绍-微纳(香港)科技有限公司-原子力显微
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  • 发布时间: 2019-08-14
产品详细

  PhenomPure是一款行使高亮度CeB6灯丝的高性价比台式扫描电镜。

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  真空加热台可任务正在超高真空处境下,重要运用正在PVD,CVD,MOCVD及等离子体浸积编制上。

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  英邦Ceramisis2000℃系列线℃的温度,空气可能是真空或惰性气体。安排了差异的层级的耐高温资料,使这个炉耐用牢靠,该编制由装置正在真空室,真空热台,真空泵,掌握编制与水冷系列构成。高温炉编制可用于种种资料的烧结。

  真空加热台可任务正在超高真空处境下,重要运用正在PVD,CVD,MOCVD及等离子体浸积编制上。

  PhenomProX电镜能谱一体机同时具备样品外外微观描摹观测和外外元素因素点、线、面分解。

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  VHX-5000可倏得对焦所需观测的职位实行观测,可正在倏得轻松观测到全幅对焦图像,摒弃中央调治的观点,无需实行对焦的全新观测方式。

  WITecalpha300S扫描近场光学显微镜是一种纯近场光学显微镜,正在许众样品上都可获取一概的超高离别率,而且具有透射与反射式两种形式。该近场光学显微镜差异于其他的超离别显微镜,如STED和STORM,后二者往往受限于荧光染料分子的可选品种及额外的激励光源。alpha300S编制采用软件可控的急速主动进针及医治等主动测试流程,操作极度简单、直观。因为近场光学信号极其薄弱,alpha300S近场光学显微镜装备高聪慧单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管,并同时供应检测器急速超载维护。更苛重的是,UHTS光谱仪可与alpha300S编制兼容,实行近场光谱与成像丈量。

  1概览SimplythebestAFMforautomaticdefectreviewandsurfaceroughnessmeasurement对待序言和基体周围的工程师而言,识别纳米级缺陷是一个极度耗时的任务。ParkNX-HDM原子力显微镜编制可借助数目级实行主动缺陷识别、扫描和分解,从而加疾缺陷的反省流程。ParkNX-HDM可与稠密的光学反省器械直接实行衔接,这就意味着主动瑕玷反省通量会大幅降低。其余,ParkNX-HDM具有无误的次埃米外外粗疏度丈量功用。依附着业内最低的本底噪声和怪异的TrueNon-Contact™技能,ParkNX-HDM毫无疑难是市道上外外粗疏度丈量最无误的原子力显微镜。

  1概览AutomatedIndustrialAFMforIn-lineWaferInspectionandMetrologyParkSystems推出业内噪声最低的全主动化工业级原子力显微镜——XE-Wafer。该主动化原子力显微镜编制旨正在为全天候临盆线mm)供应线上高离别率外外粗疏度、沟槽宽度、深度和角度丈量。借助TrueNon-Contact™形式,即使是正在组织柔弱的样品,比如光刻胶沟槽外外,XE-Wafer都能实行无损丈量。PROBLEMS目前,硬盘和半导体业的工艺工程师行使本钱清脆的聚焦离子束(FIB)/扫瞄式电子显微镜(SEM)获取纳米级的外外粗疏度、侧壁角度和高度。不幸的是,FIB/SEM会捣乱样品,且速率慢,本钱清脆。SOLUTIONXE-Wafer原子力显微镜实行全主动化的正在线mm晶体外外粗疏度、深度和角度丈量,且速率疾、精度高、本钱低。BENEFITXE-Wafer让无损线上成像成为也许,并实行众职位的直接可反复高离别率丈量。更高的无误度和线宽粗疏度监控技能让工艺工程师得以创设功能更高的仪器,且本钱明显低于FIB/SEM。

  真空加热台可任务正在超高真空处境下,重要运用正在PVD,CVD,MOCVD及等离子体浸积编制上。

  HS2000型三维外外描摹仪是一款环球最高速的三维描摹仪,采用邦际领先的白光共聚焦线光源技能,可实行对资料外外从纳米到毫米量级的粗疏度超疾测试,具有丈量精度高,速率疾,反复性好的便宜,该仪器可用于丈量大尺寸样品,并具有众种选项,包蕴360°挽救任务台,原子力显微镜模块,光学显微镜,特点区域定位等众种功用模块。

  真空加热台可任务正在超高真空处境下,重要运用正在PVD,CVD,MOCVD及等离子体浸积编制上。

  Alpha300R系列被誉为引颈科技的优良成像编制,正在更始精神指引下络续的研发,使得Alpha300R永远处于技能的前沿,特殊是正在显微光谱成像编制的敏捷性,聪慧度,速率和功能上,曾经成为业界的行业轨范。这些怪异的特点使Alpha300R成为共聚焦拉曼成像编制的墟市启发者。

  1概览Theleadingnanometrologytoolforfailureanalysisandlargesampleresearch举动一位失效分解工程师,您的使命是供应结果。而仪器所供应的数据不行承诺任何舛误的存正在。ParkNX20,这架环球最周详的大型样品原子力显微镜,依附着杰出的数据正确性,正在半导体和硬盘行业中大受讴歌。

  1概览AutomatedIndustrialAFMforHigh-Resolution3DMetrologyParkSystems推出革命性的XE-3DM全主动原子力显微镜编制,专为垂悬轮廓、高离别率侧壁成像和临界角的丈量而安排。借助独有的XY轴和Z轴独立扫描编制和倾斜式Z轴扫描器,XE-3DM凯旋治服无误侧壁分解中的法向和喇叭形头所带来的寻事。正在TrueNon-Contact™形式下,XE-3DM可实行带有高长宽比尖端的柔弱光刻胶的无损丈量。

  点蚀坑三维描摹仪是一款专业的三维外外描摹丈量仪,采用组织光道理扫描样品外外,取得三维数据消息,通过专业的分解软件可取得样品外外腐化坑的深度,宽度,长度,面积等外外参数。

  重要用于--大尺寸样品三维描摹测试的理念挑选--容易升级,众种测试模块可选

  SPA-4000棱镜耦合仪操纵波导耦合道理可能丈量薄膜或体块资料的折射率和薄膜厚度以及其热光系数,波导损耗等。对待很众薄膜及光波导用处,供应了比以椭圆光度法或分光光度法为根蒂的守旧仪器更怪异的技能。

  第四代PhenomPro是一款行使高亮度CeB6灯丝的高离别率台式扫描电镜。

  重要用于--性价比高,适合科研单元--庖代守旧的探针式描摹仪及插手式描摹仪

  通过自转和公转同时实行匀称搅拌且夹杂不分层,再搅拌的同时抽真空,有用去除纳米级细小气泡。属于非接触式搅拌。

  与ZEISS电镜联用的RISE显微镜(拉曼-SEM)RISE显微镜是一款新型联用显微镜,它将SEM和共聚焦拉曼成像连系正在一齐。通过RISE显微镜,可能将超微组织外外特点与分子化合物消息相干起来。RISE显微镜将SEM和alpha300共聚焦拉曼成像显微镜的整个功用都融于一台仪器中。

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